Année de production
2005
© Jérôme CHATIN/CNRS Images
Référence
20050001_0367
Bâti de gravure ionique réactive (RIE). Réalisation de structures dans divers matériaux par plasmas
Bâti de gravure ionique réactive (RIE). Réalisation de structures dans divers matériaux par plasmas oxygène et fluoré : résines, polymères, polyimides, diélectriques, métaux et semiconducteurs.
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