Production year
2005
© Jérôme CHATIN/CNRS Images
Reference
20050001_0367
Bâti de gravure ionique réactive (RIE). Réalisation de structures dans divers matériaux par plasmas
Bâti de gravure ionique réactive (RIE). Réalisation de structures dans divers matériaux par plasmas oxygène et fluoré : résines, polymères, polyimides, diélectriques, métaux et semiconducteurs.
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