See Photo report
20220104_0027
© Jean-Claude MOSCHETTI / IETR / CNRS Photothèque

Fabrication en salle blanche de motifs micrométriques par photolithographie optique

Reference

20220104_0027

Production year

2022

Max. size

59.99 x 40 cm / 300 dpi

Caption

Insertion d’un "wafer de silicium", aussi appelé substrat, dans un aligneur de masque pour photolithographie. La photolithographie comprend un ensemble d’étapes sur le substrat telles que l’enduction d’une couche de résine d’épaisseur micrométrique, l’exposition du substrat au travers d’un masque, le développement par bain chimique ainsi que des étapes de recuit thermique. L’enchainement de ces étapes permet la réalisation de motifs micrométriques servant de masques physiques principalement à des gravures de matériaux. Ici, il s'agit d'une photolithographie au sein de la centrale NanoRennes de l’IETR afin de réaliser des dispositifs rayonnants en silicium micro-usiné.

CNRS Institute(s)

Regional office(s)

CNRS Images,

Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.