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20110001_0424
© Cyril FRESILLON/CNRS Images

Programmation d'une machine de photolithographie par écriture directe située dans une salle blanche

Reference

20110001_0424

Production year

2011

Max. size

36.31 x 24.11 cm / 300 dpi

Caption

Programmation d'une machine de photolithographie par écriture directe située dans une salle blanche : conversion du motif en un format lisible par l'appareil, positionnement à la surface de l'échantillon, réglage des paramètres d'exposition... Les ordinateurs permettent de contrôler intégralement la machine et les diverses opérations à exécuter. Le dispositif de photolithographie permet de réaliser des structures de résolution allant jusqu'à 0,6 µm à la surface d'échantillons au moyen d'un laser UV et d'une platine interférométrique motorisée. L'objectif est de créer des structures de dimensions micrométriques à la surface d'échantillons (circuits électroniques, réseaux pour la microfluidique, masques de photolithographie...).

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