Institut des NanoSciences de Paris

Vue d'ensemble d'une salle blanche. Partie en classe Iso 7 donnant accès à la salle de microscopie électronique en classe Iso 6.

Cible métallique pour un pulvérisateur cathodique (sputtering) situé dans une salle blanche. Cet appareil permet d'obtenir des couches minces de métaux ou d'oxydes au moyen de ce type de cible de pulvérisation et d'un plasma d'argon ou d'oxygène.

Manipulation d'un évaporateur situé dans une salle blanche. Il permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Microscope optique utilisé notamment pour caractériser des structures obtenues par photolithographie dans une salle blanche. Cela permet de vérifier que les structures réalisées répondent bien aux exigences de dimensions des motifs, de positionnement et de netteté des contours. Sur l'écran, on visualise une structure en cours d'analyse. Il s'agit de contacts électriques.

Tournette dans une salle blanche. Ce dispositif permet de réaliser des couches minces homogènes de résines ou de liquides variés par spin coating (enduction centrifuge), tout en contrôlant l'épaisseur de la couche déposée. Ici, c'est une résine photosensible qui est déposée. La couche mince ainsi réalisée va être insolée par photolithographie. L'objectif est de réaliser des motifs en surface pour ensuite y déposer un matériau ou effectuer une gravure.

Programmation d'une machine de photolithographie par écriture directe située dans une salle blanche : conversion du motif en un format lisible par l'appareil, positionnement à la surface de l'échantillon, réglage des paramètres d'exposition... Les ordinateurs permettent de contrôler intégralement la machine et les diverses opérations à exécuter. Le dispositif de photolithographie permet de réaliser des structures de résolution allant jusqu'à 0,6 µm à la surface d'échantillons au moyen d'un…

Tournette permettant de réaliser en salle blanche des couches minces homogènes de résines ou de liquides variés par spin coating (enduction centrifuge), tout en contrôlant l'épaisseur de la couche déposée. La couche mince ainsi réalisée va être insolée par photolithographie. L'objectif est de réaliser des motifs en surface pour ensuite y déposer un matériau ou effectuer une gravure.

Installation d'une pastille d'aluminium dans un évaporateur thermique situé dans une salle blanche. Cet évaporateur permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Utilisation d'un évaporateur thermique situé dans une salle blanche. Il permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Dans une salle blanche, aligneur de masque permettant d'insoler localement des résines à travers un masque. Le motif du masque est transféré dans la résine photosensible présente à la surface d'un échantillon. L'endroit où ce motif sera transféré sur l'échantillon est ainsi contrôlé très précisément.

Installation d'une pastille métallique dans un évaporateur thermique situé dans une salle blanche. Cet évaporateur permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Vue d'ensemble d'une salle blanche et d'une salle de dépôt.

Dans une salle blanche, profilomètre permettant de mesurer l'épaisseur de couches minces ou de motifs à la surface d'échantillons. Sur l'écran, on visualise la pointe du profilomètre en train de scanner la surface d'un échantillon. Elle suit la topographie de l'échantillon et l'information est ensuite retranscrite sur l'écran. L'utilisateur peut alors analyser les données.

Dans une salle blanche, aligneur de masque permettant d'insoler localement des résines à travers un masque. Le motif du masque est transféré dans la résine photosensible présente à la surface d'un échantillon. L'endroit où ce motif sera transféré sur l'échantillon est ainsi contrôlé très précisément.

Tournette permettant de réaliser en salle blanche des couches minces homogènes de résines ou de liquides variés par spin coating (enduction centrifuge), tout en contrôlant l'épaisseur de la couche déposée. Ici, c'est une résine photosensible qui est déposée. La couche mince ainsi réalisée va être insolée par photolithographie. L'objectif est de réaliser des motifs en surface pour ensuite y déposer un matériau ou effectuer une gravure.

Dans une salle blanche, aligneur de masque permettant d'insoler localement des résines à travers un masque. Le motif du masque est transféré dans la résine photosensible présente à la surface d'un échantillon. L'endroit où ce motif sera transféré sur l'échantillon est ainsi contrôlé très précisément.

Dans une salle blanche, profilomètre permettant de mesurer l'épaisseur de couches minces ou de motifs à la surface d'échantillons. Cet appareil sert également à contrôler les dimensions latérales d'un motif ainsi que le caractère abrupt ou non de flancs de gravure.

Travail en salle blanche vu de l'extérieur de cette salle.

Dans une salle blanche, aligneur de masque permettant d'insoler localement des résines à travers un masque. Le motif du masque est transféré dans la résine photosensible présente à la surface d'un échantillon. L'endroit où ce motif sera transféré sur l'échantillon est ainsi contrôlé très précisément.

Vue de l'intérieur d'un évaporateur thermique situé dans une salle blanche. Il permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Vue de l'intérieur d'un évaporateur thermique situé dans une salle blanche. Il permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Dispositif de photolithographie par écriture directe situé dans une salle blanche. Cet appareil permet de réaliser des structures de résolution allant jusqu'à 0,6 µm à la surface d'échantillons, par photolithographie, au moyen d'un laser UV et d'une platine interférométrique motorisée. L'objectif est de créer des structures de dimensions micrométriques à la surface d'échantillons (circuits électroniques, réseaux pour la microfluidique, masques de photolithographie...).

Evaporateur thermique situé dans une salle blanche. Il permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Changement de la tête d'écriture d'un dispositif de photolithographie par écriture directe situé dans une salle blanche. Cet appareil permet de réaliser des structures de résolution allant jusqu'à 0,6 µm à la surface d'échantillons, par photolithographie, au moyen d'un laser UV et d'une platine interférométrique motorisée. L'objectif est de créer des structures de dimensions micrométriques à la surface d'échantillons (circuits électroniques, réseaux pour la microfluidique, masques de…

Installation d'une pastille métallique dans un évaporateur thermique situé dans une salle blanche. Cet évaporateur permet de déposer des couches minces de métaux sur tout type d'échantillon. Le matériau à déposer est chauffé jusqu'à ce qu'il se retrouve sous forme gazeuse. Ces vapeurs viennent alors se condenser sur l'échantillon pour y former une couche mince. L'objectif est d'obtenir une couche homogène d'épaisseur contrôlée.

Pastilles d'or servant au dépôt de couches minces à la surface de tout type d'échantillon. Ce dépôt est réalisé en salle blanche. L'or présente des caractéristiques physiques intéressantes notamment sa bonne conductivité électrique et thermique et son inaltérabilité. En général, l'or est utilisé pour former des contacts électriques à la surface des échantillons sur lesquels il est déposé. Ces contacts permettent par la suite d'étudier les échantillons en les excitant électriquement, par exemple.

Intérieur d'un pulvérisateur cathodique situé dans une salle blanche. Cet appareil permet d'obtenir des couches minces de métaux ou d'oxydes au moyen de cibles de pulvérisation et d'un plasma d'argon ou d'oxygène.

Manipulation d'un pulvérisateur cathodique en salle blanche. Cet appareil permet d'obtenir des couches minces de métaux ou d'oxydes au moyen de cibles de pulvérisation et d'un plasma d'argon ou d'oxygène.

Pastilles d'or servant au dépôt de couches minces à la surface de tout type d'échantillon. Ce dépôt est réalisé en salle blanche. L'or présente des caractéristiques physiques intéressantes notamment sa bonne conductivité électrique et thermique et son inaltérabilité. En général, l'or est utilisé pour former des contacts électriques à la surface des échantillons sur lesquels il est déposé. Ces contacts permettent par la suite d'étudier les échantillons en les excitant électriquement, par exemple.