Image d'un défaut hexagonal de type H3 dans un cristal photonique, fabriqué sur un substrat de silic

Image d'un défaut hexagonal de type H3 dans un cristal photonique, fabriqué sur un substrat de silicium sur isolant. Le cristal photonique est obtenu en perçant des tiges d'air suivant un réseau triangulaire. La périodicité du réseau est de 0,5 µm, le diamètre des tiges est de 0,4 µm. Le cristal photonique présente une bande interdite vers 1,3 - 1,55 µm qui correspondent aux longueurs d'onde des télécommunications optiques. Il contient en outre des îlots auto-assemblés de Ge (Germanium) déposés dans la matrice de Si (Silicium). Ces cristaux photoniques sont utilisés pour réaliser de nouvelles fonctionnalités optiques dans le domaine de la photonique intégrée sur silicium.