© Sylvain DAVID/CNRS Images
Référence
20030001_0738
Image d'un défaut hexagonal de type H3 dans un cristal photonique, fabriqué sur un substrat de silic
Image d'un défaut hexagonal de type H3 dans un cristal photonique, fabriqué sur un substrat de silicium sur isolant. Le cristal photonique est obtenu en perçant des tiges d'air suivant un réseau triangulaire. La périodicité du réseau est de 0,5 µm, le diamètre des tiges est de 0,4 µm. Le cristal photonique présente une bande interdite vers 1,3 - 1,55 µm qui correspondent aux longueurs d'onde des télécommunications optiques. Il contient en outre des îlots auto-assemblés de Ge (Germanium) déposés dans la matrice de Si (Silicium). Ces cristaux photoniques sont utilisés pour réaliser de nouvelles fonctionnalités optiques dans le domaine de la photonique intégrée sur silicium.
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales