Equipement de gravure ionique par faisceau d'ions et spectromètre de masse d'ions secondaires

Observation de la qualité d'un plasma d'ions Argon généré à l'intérieur d'un équipement de gravure ionique par faisceau d'ions argon, oxygène (IBE 4Wave) (au second plan). La composition de ce plasma est analysée par un spectromètre de masse d'ions secondaires (SIMS), composé d'un détecteur et d'un collecteur d'ions secondaires (au premier plan). Cet équipement permet de graver, de manière non sélective et atome par atome, une succession de fines couches (nm) de matériaux (métal, isolant, polymère) et de s'arrêter précisément dans une couche, grâce à l'assistance du SIMS. Un des intérêts de cette technique consiste à graver jusqu'à une barrière tunnel pour les applications nanomagnétiques.