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Référence
20180004_0035
Croissance de graphène sur un substrat métallique, à 1050 °C
Croissance de graphène sur un substrat métallique, à 1050 °C, par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD). L'objectif est de réaliser des matériaux pour des applications dans le domaine de la nanoélectronique, la photonique, la détection, la microfluidique, l’électrochimie, la nanofabrication (MEMS, NEMS). PlatefOrme Élaboration des Matériaux (POEM) du C2N.
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