Année de production
2017
© Cyril FRESILLON / C2N / CNRS Images
20180004_0025
Microscope à champ proche sous ultravide (STM : Scanning Tunneling Microscopy et AFM : Atomic Force Microscopy). Cet instrument est couplé à un bâti d'épitaxie par jets moléculaires pour étudier les conditions de croissance après transfert sous ultravide. L'épitaxie par jets moléculaires permet de réaliser des couches minces épitaxiées sur des monocristaux. Ce réacteur est équipé de huit sources de matériaux élémentaires (gallium, aluminium, indium, arsenic, silicium, carbone) et d'un ensemble de pompage particulièrement soigné. Il est dédié à l'élaboration d'hétérostructures à base de semiconducteurs III-V avec des propriétés électroniques performantes en termes de densité et de mobilité électronique. Les échantillons ainsi réalisés servent à élaborer des nanostructures ou dispositifs (transistors...) pour la physique mésoscopique et la photonique. PlatefOrme Élaboration des Matériaux (POEM) du C2N.
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2017
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