Image obtenue par microscopie de force atomique (AFM) de la surface d'une couche magnétique dont la

Image obtenue par microscopie de force atomique (AFM) de la surface d'une couche magnétique dont la topologie a été modulée en structurant par lithographie électronique le substrat de silicium sur lequel elle est déposée. La période et l'amplitude de la modulation sont respectivement d'une centaine et d'une dizaine de nanomètres. Ce type de modulation permettrait de contrôler les propriétés magnétiques des couches. Grâce à cette technique, les chercheurs ont réalisé un capteur de champ magnétique bidimensionnel.