Année de production
2007
© François VRIGNAUD/CNRS Images
Référence
20070001_1394
Dépôt réalisé par plasma froid homogène (décharge de Townsend), à la pression atmosphérique, sur un
Dépôt réalisé par plasma froid homogène (décharge de Townsend), à la pression atmosphérique, sur un échantillon en silicium.
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