© Hubert RAGUET / CNRS Images
Référence
20060001_0398
Technique d'élaboration des couches minces de ZnO (oxyde de zinc) par la pulvérisation cathodique ra
Technique d'élaboration des couches minces de ZnO (oxyde de zinc) par la pulvérisation cathodique radiofréquences à magnétron. Le dépôt de la couche est contrôlé par cinq paramètres essentiels ; le débit et la pression des espèces gazeuses (Argon et Oxygène), la puissance nominale appliquée à la cible, la distance interélectrode (cible-substrat) et la température du substrat.
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