Année de production
2013
© Cyril FRESILLON/CNRS Images
Référence
20130001_0782
Four haute température à 1 200 °C d'un bâti d'épitaxie par jets moléculaires
Four haute température à 1 200 °C d'un bâti d'épitaxie par jets moléculaires. Il est intégré à l'usine sous ultravide (DUF) installée dans une salle blanche du bâtiment Pico-Lab au CEMES (Centre d'élaboration de matériaux et d'études structurales), consacré aux picotechnologies. L'usine sous ultravide a été conçue pour réaliser un dispositif de mesure des propriétés électroniques d'une molécule unique sur substrats isolants tels que le nitrure d'aluminium AlN(0001).
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