
© Yves DELANNOY/SIMaP/CNRS Images
Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un jet de gaz réactif chauffé par induc
Reference
20120001_1211
Production year
2000
Max. size
14.49 x 11.58 cm / 300 dpi
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Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un jet de gaz réactif chauffé par induction à l'état plasma (~10000 K) réagit avec 3 kg de silicium liquide chauffé, brassé et déformé (dôme) par un creuset froid inductif, afin d'en extraire le bore. Le projet de recherche ARTIST(2000) a permis de mettre au point ce procédé d'obtention de silicium à bas coût et faible impact environnemental, en voie d'industrialisation en 2012.