L'url de cette page a bien été copiée dans votre presse-papier!
Reference
20150001_0519
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
The use of media visible on the CNRS Images Platform can be granted on request. Any reproduction or representation is forbidden without prior authorization from CNRS Images (except for resources under Creative Commons license).
No modification of an image may be made without the prior consent of CNRS Images.
No use of an image for advertising purposes or distribution to a third party may be made without the prior agreement of CNRS Images.
Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.
