20120001_1211
© Yves DELANNOY/SIMaP/CNRS Photothèque

Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un jet de gaz réactif chauffé par induc

Référence

20120001_1211

Année de production

2000

Taille maximale

14.49 x 11.58 cm / 300 dpi

Légende

Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un jet de gaz réactif chauffé par induction à l'état plasma (~10000 K) réagit avec 3 kg de silicium liquide chauffé, brassé et déformé (dôme) par un creuset froid inductif, afin d'en extraire le bore. Le projet de recherche ARTIST(2000) a permis de mettre au point ce procédé d'obtention de silicium à bas coût et faible impact environnemental, en voie d'industrialisation en 2012.

Institut(s)

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

CNRS Images,

Nous mettons en images les recherches scientifiques pour contribuer à une meilleure compréhension du monde, éveiller la curiosité et susciter l'émerveillement de tous.