Année de production
2000
© Yves DELANNOY/SIMaP/CNRS Images
Référence
20120001_1211
Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un jet de gaz réactif chauffé par induc
Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un jet de gaz réactif chauffé par induction à l'état plasma (~10000 K) réagit avec 3 kg de silicium liquide chauffé, brassé et déformé (dôme) par un creuset froid inductif, afin d'en extraire le bore. Le projet de recherche ARTIST(2000) a permis de mettre au point ce procédé d'obtention de silicium à bas coût et faible impact environnemental, en voie d'industrialisation en 2012.
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