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Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Fin de rechargement d'un creuset de 10 kg par apport de grains à travers le plasma. L'extrapolation industrielle (jusqu'à 250 kg) utilise un creuset graphite qui facilite les opérations de fusion et de rechargement, mais conserve le principe du brassage électromagnétique (optimisé en fonction de l'écrantage provoqué par le graphite). Le projet de recherche ARTIST(2000) a permis de mettre au point un procédé d'obtention de silicium à…

Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un jet de gaz réactif chauffé par induction à l'état plasma (~10000 K) réagit avec 3 kg de silicium liquide chauffé, brassé et déformé (dôme) par un creuset froid inductif, afin d'en extraire le bore. Le projet de recherche ARTIST(2000) a permis de mettre au point ce procédé d'obtention de silicium à bas coût et faible impact environnemental, en voie d'industrialisation en 2012.

Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Un creuset froid inductif, rempli de grains de silicium, est placé sous une torche à plasma thermique qui en assure la fusion initiale. Un apport de grains par le centre du plasma permet de compléter le niveau de métal liquide. Le projet de recherche ARTIST(2000) a permis de mettre au point un procédé d'obtention de silicium à bas coût et faible impact environnemental, en voie d'industrialisation en 2012.