Production year
2009
© Emmanuel PERRIN/LAAS/CNRS Images
Reference
20090001_0504
Plateforme micro et nanotechnologies : four automatisé pour la croissance et le dépôt de matériaux à
Plateforme micro et nanotechnologies : four automatisé pour la croissance et le dépôt de matériaux à base de silicium. Des substrats de silicium sont chargés sur les nacelles avant l'enfournement. A l'intérieur des fours les réactions chimiques entre le silicium et les gaz réactifs sont exacerbées par la chaleur. Cela permet la croissance ou le dépôt de matériaux (SiO2, Si3N4, SiNx, etc.) pour la réalisation de composants microélectroniques, optoélectroniques, de micro et nanosystèmes.
Add to my selection
Terms of use
The use of media visible on the CNRS Images Platform can be granted on request. Any reproduction or representation is forbidden without prior authorization from CNRS Images (except for resources under Creative Commons license).
No modification of an image may be made without the prior consent of CNRS Images.
No use of an image for advertising purposes or distribution to a third party may be made without the prior agreement of CNRS Images.
For more information, please consult our general conditions
