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20220116_0050

© Cyril FRESILLON / IPVF / CNRS Images

Reference

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Contrôle visuel d'échantillons de couches minces après dépôt par ALD (Atomic Layer Deposition)

Contrôle visuel d'échantillons de couches minces après dépôt par ALD (Atomic Layer Deposition). Basée sur des réactions chimiques de surface, cette méthode permet de synthétiser des couches minces conformes, avec un contrôle à l’échelle atomique de leur composition et de leur épaisseur. Ainsi, cette technique est particulièrement bien adaptée à l’ingénierie d’interfaces et participe à la fabrication de cellules solaires à très haut rendement de conversion.

Research program(s)

CNRS Institute(s)

Regional office(s)

Scientific topics

CNRS Images,

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