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20220116_0050
© Cyril FRESILLON / IPVF / CNRS Images

Contrôle visuel d'échantillons de couches minces après dépôt par ALD (Atomic Layer Deposition)

Référence

20220116_0050

Année de production

2022

Taille maximale

41.72 x 27.77 cm / 300 dpi

Légende

Contrôle visuel d'échantillons de couches minces après dépôt par ALD (Atomic Layer Deposition). Basée sur des réactions chimiques de surface, cette méthode permet de synthétiser des couches minces conformes, avec un contrôle à l’échelle atomique de leur composition et de leur épaisseur. Ainsi, cette technique est particulièrement bien adaptée à l’ingénierie d’interfaces et participe à la fabrication de cellules solaires à très haut rendement de conversion.

Programme(s)

Institut(s)

Thématiques scientifiques

CNRS Images,

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