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20220116_0058
© Cyril FRESILLON / IPVF / CNRS Images

Chargement d'échantillons dans un bâti de dépôt de couches minces par ALD (Atomic Layer Deposition)

Référence

20220116_0058

Année de production

2022

Taille maximale

27.77 x 41.72 cm / 300 dpi

Légende

Chargement d'échantillons dans un bâti de dépôt de couches minces par ALD (Atomic Layer Deposition). Basée sur des réactions chimiques de surface, cette méthode permet de synthétiser des couches minces conformes, avec un contrôle à l’échelle atomique de leur composition et de leur épaisseur. Ainsi, cette technique est particulièrement bien adaptée à l’ingénierie d’interfaces et participe à la fabrication de cellules solaires à très haut rendement de conversion.

Programme(s)

Institut(s)

Thématiques scientifiques

CNRS Images,

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