Année de production
2018
© Hubert RAGUET / IJL / CNRS Images
20180015_0045
Dépôt d'une résine photosensible sur un échantillon, qui est installé sur une tournette paramétrée afin d'obtenir l'épaisseur souhaitée. La résine sera ensuite recuite sur une plaque chauffante pour évaporer le solvant, et ainsi préparer l'exposition aux ultraviolets. Ces manipulations sont réalisées en salle blanche, sous une hotte à flux laminaire afin d'éviter tout dépôt de poussière. La lithographie permet de reproduire à l'identique (forme et résolution) les motifs d'un masque sur un échantillon, via une résine photosensible exposée aux ultraviolets.
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2018
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