Caisson d'implantation d'un implanteur ionique moyen courant

Caisson d'implantation d'un implanteur ionique moyen courant, implanteur utilisé pour la création de défauts en physique des matériaux. L'aimant de tri et la source à l'intérieur du caisson peuvent être soumis à un potentiel allant jusqu'à 200 kV. Plusieurs sources sont disponibles permettant l'implantation directe à partir de gaz ou encore l'implantation d'autres éléments solides par technique de pulvérisation. L'implanteur du département de physique et mécanique des matériaux de l'institut Pprime est principalement utilisé pour l'étude des défauts dans les matériaux, soit pour créer des défauts dans le but de modifier ou de générer de nouvelles propriétés physiques (électronique, spintronique, nanostructuration, etc.), soit comme moyen d'étude en amont pour fournir les bases de la prédiction du comportement de matériaux en conditions extrêmes d'environnement (industrie du nucléaire, espace).