20130001_0757
© Cyril FRESILLON/CNRS Photothèque

Positionnement d'une galette de silicium enduite de résine sensible aux UV

Référence

20130001_0757

Année de production

2013

Taille maximale

27.77 x 41.72 cm / 300 dpi

Légende

Positionnement d'une galette de silicium enduite de résine sensible aux UV, sur la platine d'un banc de lithographie laser. Cet échantillon doit être positionné sous le point focal du faisceau laser ultraviolet. L'appareil de lithographie est installé dans une salle propre. Il est utilisé pour des procédés de prototypage permettant de réaliser des motifs aussi divers que des électrodes, des engrenages, des guides d'ondes, des lentilles,... à l'échelle nanométrique, pour des applications électroniques, fluidiques, optiques ou mécaniques.

Institut(s)

Délégation(s)

Thématiques scientifiques

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