Année de production
2007
© François VRIGNAUD/CNRS Images
Référence
20070001_1403
Plasma micro-onde multipolaire utilisé pour le dépôt de couches minces ou le traitement de surface d
Plasma micro-onde multipolaire utilisé pour le dépôt de couches minces ou le traitement de surface de matériaux. Le substrat, placé au centre du réacteur est soumis à un plasma homogène créé par les 8 festons périphériques.
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