20050001_0368

© Jérôme CHATIN/CNRS Images

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20050001_0368

Bâti de dépôt de films minces diélectriques par pulvérisation cathodique radio fréquence magnétron :

Bâti de dépôt de films minces diélectriques par pulvérisation cathodique radio fréquence magnétron : SiC, Si3N4, Al2O 3, SiO2, TiO2, AlN. Ce bâti permet par exemple de fabriquer des membranes ultrafines (100nm d'épaisseur) en SiC (carbure de silicium).

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