Légende
Au premier plan : écran de contrôle du dispositif de gravure par faisceau d'ions focalisé (à l'arrière-plan). Les flèches indiquent les zones à graver. Ce dispositif a permis de réaliser les premiers cristaux photoniques tri-dimensionnels (" yablonovites "), dans un substrat de silicium, fonctionnant dans la gamme de l'infrarouge proche (LPS, Orsay, collaboration IEF).
