Coupe d'un cristal photonique deux dimensions réalisé à l'Institut d'électronique fondamentale dans

Coupe d'un cristal photonique deux dimensions réalisé à l'Institut d'électronique fondamentale dans un substrat de silicium par une méthode de gravure photo-électrochimique (dite de "silicium macroporeux"). Ce cristal photonique possède une bande interdite complète à 1,5 µm. On remarque la taille nanométrique des motifs dont la période est d'environ 650 nm. On remarque aussi l'extrême régularité des macropores dont la hauteur dépasse 50 µm, soit cent fois leur diamètre (Réf. CNRS-INFO N°376 Juillet 1999).