© Alain MURIOT/CNRS Images
Référence
19950001_1037
Etude des interfaces et de la croissance des matériaux déposés en couches minces par plasma. Réacteu
Etude des interfaces et de la croissance des matériaux déposés en couches minces par plasma. Réacteur de dépôt de couches minces par plasma combinés microonde-radiofréquence. Ellipsomètre infrarouge à modulation de phase.
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