Année de production
1995
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Référence
19950001_0365
La technique CVD (méthode de dépôt chimique en phase vapeur) permet de déposer un revêtement de carb
La technique CVD (méthode de dépôt chimique en phase vapeur) permet de déposer un revêtement de carbure de silicium (SiC) sur un fil de tungstène porté à une température de 1000°C.
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