19950001_0365

© Laurence MEDARD/CNRS Images

Reference

19950001_0365

La technique CVD (méthode de dépôt chimique en phase vapeur) permet de déposer un revêtement de carb

La technique CVD (méthode de dépôt chimique en phase vapeur) permet de déposer un revêtement de carbure de silicium (SiC) sur un fil de tungstène porté à une température de 1000°C.

CNRS Institute(s)

Regional office(s)

Scientific topics

CNRS Images,

Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.