Année de production
2009
© Emmanuel PERRIN/CNRS Images
Référence
20090001_1221
Ingénieur de recherche présentant une couche de 200 nm de nitrure d'aluminium sur substrat silicium
Ingénieur de recherche présentant une couche de 200 nm de nitrure d'aluminium sur substrat silicium 4 pouces, réalisée dans un réacteur d'épitaxie en phase vapeur d'organo-métalliques (réacteur EPVOM en arrière plan).
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