Gravure d'antimoniure de gallium (GaSb) avec de l'acide phosphorique (H3PO4+H2O2+H2O avec agitation)

Gravure d'antimoniure de gallium (GaSb) avec de l'acide phosphorique (H3PO4+H2O2+H2O avec agitation). Les motifs d'apatites sont des phosphates d'antimoine (SbPO4) et de gallium (GaPO4). L'objectif est la passivation de surfaces (ralentissement de la corrosion par un film) pour diminuer les courants de fuites des composants optoélectroniques. L'antimoniure de gallium est utilisé comme substrat pour la fabrication d'émetteurs (diodes lasers) et de détecteurs de rayonnement infrarouge, pour des applications comme l'analyse de gaz, la vision nocturne ou l'aide au diagnostic médical.