Production year
2000
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Reference
20000001_1174
Masque pour la lithographie optique. Le masque est placé sur un substrat, puis du métal, chauffé par
Masque pour la lithographie optique. Le masque est placé sur un substrat, puis du métal, chauffé par un faisceau d'électrons, est déposé dessus ; les parties non protégées par le métal peuvent ensuite être gravées. Cette opération se fait au moyen d'ions rendus chimiquement actifs, ce qui a le double avantage d'accélérer le processus et d'éviter d'attaquer le masque. Salle blanche (Réf. Le journal du CNRS Mai 2000).
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