Caption
Masque pour la lithographie optique. Le masque est placé sur un substrat, puis du métal, chauffé par un faisceau d'électrons, est déposé dessus ; les parties non protégées par le métal peuvent ensuite être gravées. Cette opération se fait au moyen d'ions rendus chimiquement actifs, ce qui a le double avantage d'accélérer le processus et d'éviter d'attaquer le masque. Salle blanche (Réf. Le journal du CNRS Mai 2000).
