Production year
2016
© Frédérique PLAS / ETIS / UCP / ENSEA / CNRS Images
20160097_0046
Wafer issu de la technologie SOI (Silicon On Insulator - silicium sur isolant), sur la plaquette duquel différents types de transistors MOS sont gravés. Il sera soumis à des mesures sous pointes afin de déterminer un modèle électrique. La station au second plan permet de positionner les pointes afin qu'elles soient mises en contact électrique avec le circuit, avec une précision de l'ordre de 10 à 20 µm. Suivant l’application, les mesures électriques permettent de caractériser les performances d’un circuit (gain, linéarité…) ou d’obtenir des informations sur le comportement électrique de composants afin d’en déduire un modèle électrique équivalent.
The use of media visible on the CNRS Images Platform can be granted on request. Any reproduction or representation is forbidden without prior authorization from CNRS Images (except for resources under Creative Commons license).
No modification of an image may be made without the prior consent of CNRS Images.
No use of an image for advertising purposes or distribution to a third party may be made without the prior agreement of CNRS Images.
For more information, please consult our general conditions
2016
Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.