Année de production
2002
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Référence
20020001_0208
Appareillage de gravure par faisceau d'ions focalisé permettant de créer des structures à l'échelle
Appareillage de gravure par faisceau d'ions focalisé permettant de créer des structures à l'échelle nanométrique. Ce dispositif a permis de réaliser les premiers cristaux photoniques tri-dimensionnels (" yablonovites "), dans un substrat de silicium, fonctionnant dans la gamme de l'infrarouge proche (LPS, Orsay, collaboration IEF).
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