Chargement d'échantillons dans un bâti de dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique

Chargement d'échantillons dans un bâti de dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique. Ce dépôt physique est contrôlé par cinq paramètres essentiels : la pression dans la chambre, la puissance nominale appliquée à la cible, la distance interélectrode (cible-substrat) et la température du substrat. Il permet notamment le dépôt de matériaux transparents et conducteurs ainsi que des métaux, pouvant être utilisés comme électrodes de cellules solaires.