Année de production
2012
© Cyril FRESILLON/CNRS Images
20120001_1808
Conception avec un logiciel dédié, du design contenant des zones de résine électrosensible à insoler. L'ingénieur règle également les paramètrages de l'exposition de la résine et ceux de la colonne. Le wafer enduit de résine électrosensible sera placé dans une station de lithographie par faisceau d'électrons (Ebeam). L'ensemble sera bombardé par un faisceau électronique de haute énergie, selon un motif préalablement déterminé. Après développement dans une solution appropriée, la résine insolée va se dissoudre (cas d'une résine positive). Les applications de cette machine sont principalement la micro/nanoacoustique et nanooptique.
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2012
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