Bâti de dépôt ultravide, alimentation électrique de puissance et pilotage par un automate

Bâti de dépôt ultravide par pulvérisation magnétron (à droite), alimentation électrique de puissance et pilotage par un automate (rack à gauche). Ce type de bâti permet la synthèse de couches minces (du nanomètre au micromètre) de différents types de matériaux inorganiques (métaux, céramiques…) et présentant des architectures variées : nanoparticules, couches épitaxiées, nanocomposites et multicouches. Le bâti est équipé de plusieurs moyens de caractérisation in situ et en temps réel : spectromètre de masse, courbure du substrat, réflectivité différentielle de surface et résistivité électrique.