Retour au reportage Retour au reportage
20170142_0018

© Cyril FRESILLON / PPRIME / CNRS Images

Reference

20170142_0018

Échantillon de silicium mis sur un support pour implantation ionique à température ambiante

Mise en place d'un échantillon de silicium sur un support permettant l'implantation ionique à la température ambiante et sur une surface allant jusqu'à 25 cm2. L'implanteur ionique moyen courant est ici utilisé pour la création de défauts en physique des matériaux. Plusieurs supports sont possibles permettant l'implantation d'éléments dans une large gamme de température allant de l'azote liquide à 800 °C.

CNRS Institute(s)

Scientific topics

CNRS Images,

Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.