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Reference
20150001_0520
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma
Introduction d'une plaquette de silicium dans un réacteur de dépôt assisté plasma (PECVD) de couches minces diélectriques. Une nacelle multi-électrodes en graphite permet de traiter 15 plaquettes de silicium en même temps. Du nitrure de silicium déposé sur ces plaquettes est utilisé comme couche anti-reflet et passivante. Cette opération est l'une des étapes de transformation de ces plaquettes en cellules photovoltaïques. L'objectif est d'améliorer le rendement des cellules photovoltaïques en silicium cristallin.
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