© Jacques GIERAK/CNRS Images
Reference
20050001_1712
Image d'un réseau de lignes gravées par FIB (Focused Ion Beam) qui atteignent la largeur reproductib
Image d'un réseau de lignes gravées par FIB (Focused Ion Beam) qui atteignent la largeur reproductible record de 8 nm. Le système FIB permet de sculpter directement des formes de taille nanométrique sur des échantillons conducteurs grâce à un faisceau d'ions focalisés. Un matériau peut ainsi être structuré sans recourir au dépôt d'une couche sensible intermédiaire, indispensable en nanolithographie classique.
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