20050001_1712

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Image d'un réseau de lignes gravées par FIB (Focused Ion Beam) qui atteignent la largeur reproductib

Image d'un réseau de lignes gravées par FIB (Focused Ion Beam) qui atteignent la largeur reproductible record de 8 nm. Le système FIB permet de sculpter directement des formes de taille nanométrique sur des échantillons conducteurs grâce à un faisceau d'ions focalisés. Un matériau peut ainsi être structuré sans recourir au dépôt d'une couche sensible intermédiaire, indispensable en nanolithographie classique.

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