Research program(s)
Production year
2000
© Yves DELANNOY/SIMaP/CNRS Images
Reference
20120001_1209
Purification de silicium par plasma
Purification par plasma, de silicium pour le photovoltaïque. Fin de rechargement d'un creuset de 10 kg par apport de grains à travers le plasma. L'extrapolation industrielle (jusqu'à 250 kg) utilise un creuset graphite qui facilite les opérations de fusion et de rechargement, mais conserve le principe du brassage électromagnétique (optimisé en fonction de l'écrantage provoqué par le graphite). Le projet de recherche ARTIST(2000) a permis de mettre au point un procédé d'obtention de silicium à bas coût et faible impact environnemental, en voie d'industrialisation en 2012.
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