Alignement des motifs d'un masque sur un échantillon dans une machine de lithographie optique

Alignement des motifs d'un masque sur un échantillon préalablement recouvert de résine photosensible, dans une machine de lithographie optique (un aligneur de masque MJB4), en salle blanche. Cet équipement permet de réaliser des masques en résine photosensible de motifs micrométriques en 2D. Un rayonnement ultraviolet de longueur d'onde 365 nanomètres est envoyé sur la résine à travers un masque de verre sur lequel sont dessinés les motifs à reproduire. Cette technique permet de descendre à une résolution de 1 µm et de superposer plusieurs masques les uns sur les autres pour former un dispositif. Cette machine est utilisée dans le cadre de la fabrication de microsystèmes à ondes acoustiques de surface et de jonctions tunnel, entre autres applications.