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Reference
20150001_0542
Insertion d'échantillons de silicium dans un réacteur de dépôt ALD
Insertion d'échantillons de silicium dans un réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) pour le dépôt de couches minces d'alumine sur leur surface. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques en silicium cristallin, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion. Cette opération permet d'améliorer leur rendement de conversion.
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