Année de production
1994
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Référence
19940001_0689
Réacteur de dépôt chimique en phase vapeur, assisté par plasma microonde : dépôts de films de diaman
Réacteur de dépôt chimique en phase vapeur, assisté par plasma microonde : dépôts de films de diamant. Vue du réacteur et du plasma. En haut le générateur microonde.
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