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20180004_0033
© Cyril FRESILLON / C2N / CNRS Photothèque

Substrat métallique utilisé pour la croissance de nouveaux matériaux 2D

Reference

20180004_0033

Production year

2017

Max. size

41.72 x 27.77 cm / 300 dpi

Caption

Substrat métallique (wafer de 4 pouces) utilisé pour la croissance de nouveaux matériaux 2D par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD). Il sera inséré dans le bâti pour la croissance de graphène. L'objectif est de réaliser des matériaux pour des applications dans le domaine de la nanoélectronique, la photonique, la détection, la microfluidique, l’électrochimie, la nanofabrication (MEMS, NEMS). PlatefOrme Élaboration des Matériaux (POEM) du C2N.

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