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20150001_0539
© Cyril FRESILLON/INL/CNRS Images

Réacteur de dépôt ALD

Reference

20150001_0539

Production year

2015

Max. size

41.72 x 27.77 cm / 300 dpi

Caption

Réacteur de dépôt ALD (Atomic layer deposition) utilisé pour le dépôt de couches minces d'alumine sur des cellules photovoltaïques en silicium cristallin. L'alumine permet de passiver la surface des cellules photovoltaïques, c'est-à-dire de ralentir sa vitesse de corrosion, et d'améliorer ainsi leur rendement de conversion.

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